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半导体良率提升利器｜流式动态图像法粒度仪，筑牢粉体质控防线
在半导体产业精细化、发展趋势下，粉体颗粒精细化管控已成为产业升级的核心抓手。针对传统检测手段维度单一、团聚难辨、缺乏可视化溯源等短板，YH-FIPS-10流式动态图像法粒度仪依托粒径与形貌一体化检测能力，可实现对团聚、异形、破损及杂质颗粒的筛查，并以高精度粒径统计、多维数据输出、自动化高效检测等优势，贯通材料研发、来料质检与批量生产全流程；叠加胤煌科技自研技术与全国化服务保障，助力半导体企业筑牢粉体源头品质防线，切实实现提质、降本、增效，以国产自研精密技术持续赋能半导体产业高质量发展。
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从“能测”到“能鉴定”，这项专利补齐先进制程颗粒分析短板
半导体工艺进入3nm及以下节点后，行业对“洁净”的界定发生本质变革。以往仅肉眼可见的碎屑、残留物被视作污染物，如今微量外来化学物质一旦破坏晶圆表面反应、界面结构或薄膜连续性，就会形成隐性污染，产业迎来原子尺度看不见的品质管控难题。
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告别数据孤岛，统一颗粒研发质控检测标准
做粉体、制剂研发质控的同行，大概率都遇过同一个头疼难题：研发、质控两套检测体系数据互不兼容，产品出问题只能盲目溯源。
研发用图像仪能看清颗粒真实形貌，质控依赖光阻法只拿到一堆粒度数字；一旦批次质量波动，两套数据无法交叉印证，异常根源全靠经验猜测，排查耗时又容易误判。
而流式动态图像法，恰好补上了行业短板，用一套统一检测标准，搭建起研发到生产质控的通用数据桥梁，实现颗粒全流程可视化管控。 -
流式动态图像法可用于半导体光刻胶颗粒检测：精度影响因素深度解析
流式动态图像法是现阶段光刻胶高精度颗粒检测的核心技术，但其精度受硬件、工况、算法、运维多重因素影响。在半导体制程良率竞争愈发激烈的当下，依托胤煌科技专业化、场景化的精密检测方案，可有效规避检测误差，精准把控光刻胶品质，为半导体先进制程的稳定量产筑牢品质根基。
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展会通知|2026中国（深圳）国际半导体展览会
2026中国 (深圳) 国际半导体展览会将于6月10日-12日在深圳国际会展中心（宝安新馆）举办，展会依托行业发展机遇与主管部门扶持，秉持“突出品牌、开拓创新、注重实效” 办展宗旨，致力打造半导体领域规模化、高价值、权威性行业交流盛会，搭建高标准行业展示对接平台，诚邀业内企业参展参与。
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高浓度Zeta粒度分析仪助力研磨液的生产调试
ZETA电位（Zeta potential）是指剪切面(Shear Plane)的电位，又叫电动电位或电动电势（ζ-电位或ζ-电势），是表征胶体分散系稳定性的重要指标。Zeta电位的重要意义在于其绝对值与检测对象的稳定性呈正相关，即Zeta电位是对颗粒之间相互排斥或吸引力的强度度量，在一定程度上来讲，分子或分散粒子越小，Zeta电位绝对值越高，则体系越稳定。反之，若Zeta电位绝对值越低，分子之间则越倾向于凝结或凝聚。Zeta电位测量技术已经被广泛的应用于工业和科研各个领域，比如陶瓷生产领域，我们需要测量陶瓷浆料的Zeta电位来考察浆料的存储稳定性；在生物制药领域，我们需要测试蛋白溶液的Zeta电位以尽量避免蛋白大分子的团聚；而在水处理领域则恰恰相反，需要加絮凝剂并将其电位调节到等电点附近，从而让其变得更容易絮凝沉淀以便去除水中的颗粒杂质。Zeta电位既然如此重要，那我们如何才能得到一个悬液体系准确的Zeta电位数据呢？胤煌科技将通过美国MAS系列的高浓度Zeta电位分析仪带您了解Zeta电位分析的具体过程。
